Anaïs Lerévérend
2015年2月25日
LVMH大奖26位入围名单公布
Anaïs Lerévérend
2015年2月25日
FashionMag.com中文网--第二届LVMH设计大奖的首阶段进展顺利。LVMH集团在将近1000个报名参赛者选出26位入围者,届时其中8人将进入决赛。
这26位入围者来自10多个国家,其中以中国,美国和英国最多,法国也有入围者,不过他们大部分都是在伦敦发展。其中15人为女装设计师,5人是男女装设计师,其余6人则是男装设计师。其中三个品牌此前已经参加过第一届大奖:Jacquemus, Marques Almeida和Craig Green。
负责大奖首阶段的Delphine Arnault认为这“反映了现在时尚行业的强烈趋势:男装时尚创意无限,高街时尚影响日渐凸显,女装时尚则至关重要。”
45位国际专业评委将于3月4日至5日会见26位入围者,从中选中8位选手。另外,本次大奖的学生类别(非专业设计师类别)仍未结束报名,具体截止日期为5月3日。
LVMH大奖的26位入围者名单:
Agi and Sam (在伦敦发展), 李佳佩Andrea Jiapei Li (纽约), Anton Belinskiy (基辅), Arthur Arbesser (米兰), Astrid Andersen (哥本哈根), Baja East (纽约), Coperni (巴黎), Craig Green (伦敦), Devon Halfnight LeFlufy (安特卫普), Faustine Steinmetz (纽约), 张卉山Huishan Zhang (伦敦), Jacquemus (巴黎), Jourden (香港), Koché (巴黎), Marques Almeida (伦敦), Nabil Nayal, (伦敦), Nasir Mazhar (伦敦), Off White c/o Virgil Abloh (米兰), Orley (纽约), Ryan Lo(伦敦), Ryan Roche (纽约), 上官喆Sankuanz (厦门), Vetements (巴黎), WrittenAfterwards (东京), Xiao Li (伦敦) 以及李希萌Ximon Lee (纽约)。
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